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单晶硅半导体研磨废水处理方法

单晶硅半导体研磨废水处理方法

  • 分类:新闻动态
  • 作者:半导体研磨废水
  • 来源:华清环保
  • 发布时间:2020-09-10 10:56
  • 访问量:

【概要描述】随着单晶硅磨削的产生,单晶硅磨削过程中容易产生大量半导体研磨废水,其中主要含有硅粉、碳化硅、聚乙二醇、氢氟酸、柠檬酸、去污剂和少量表面活性剂。该综合废水具有化学需氧量和SS含量高,生物降解性差等特点。

单晶硅半导体研磨废水处理方法

【概要描述】随着单晶硅磨削的产生,单晶硅磨削过程中容易产生大量半导体研磨废水,其中主要含有硅粉、碳化硅、聚乙二醇、氢氟酸、柠檬酸、去污剂和少量表面活性剂。该综合废水具有化学需氧量和SS含量高,生物降解性差等特点。

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  • 作者:半导体研磨废水
  • 来源:华清环保
  • 发布时间:2020-09-10 10:56
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单晶硅是一种相对活跃的非金属元素,它是晶体材料的重要组成部分,处于新材料开发的前沿。它的主要用途是作为半导体材料和太阳能光伏发电和供热。

 

随着单晶硅磨削的产生,单晶硅磨削过程中容易产生大量半导体研磨废水,其中主要含有硅粉、碳化硅、聚乙二醇、氢氟酸、柠檬酸、去污剂和少量表面活性剂。该综合废水具有化学需氧量和SS含量高,生物降解性差等特点。

 

单晶硅半导体研磨废水处理方法目前,单晶硅磨削废水的常见处理方法包括吸附法和沉淀法。吸附方法是使含氟废水流经接触床,并通过离子交换或与床中固体介质的化学反应将氟化物除去。沉淀法是除氟过程中广泛使用的处理方法,可作为处理高浓度含氟废水的主要方法。

 

单晶硅废水主要包含硅粉、二氧化硅、清洁剂和少量表面活性剂。废水中的化学需氧量和悬浮固体含量高,生物降解性差。根据单晶硅研磨废水中硅胶污染物的特性,在三人环境下开发的水处理剂“去稳定剂”破坏了硅胶的稳定性,从而促进了硅胶的沉淀,从而实现了有效的处理和处理。通过使用三相流化床,高级氧化,膜分离和其他技术来重复使用。

 

处理剂“去稳定剂”:用于去除废水中的硅胶,以净化废水,主要用于单晶硅半导体生产和加工业的废水处理。

 

三相流化床:可连续运行多年,铁碳填料不结块或堵塞,反应速度比传统流化床快十倍以上,设备全自动运行;该技术可用于重金属的氧化还原,有利于废水的脱色,提高生物降解性和降解大分子有机污染物。

 

以上即是华清环保关于单晶硅半导体研磨废水处理方法介绍,希望对大家有帮助。

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