含氟废水主要来自计算机电路制造、电视显像管、太阳能电池（半导体工业）、印刷电路板以及有色金属和稀土金属的冶炼。目前，国内外对高浓度含氟废水的处理方法有几种，其中吸附法和沉淀法较为普遍。其中，沉淀法主要用于处理工业含氟废水，吸附法主要用于处理饮用水。下面华清环保来为大家简单介绍一下含氟半导体划片废水的处理工艺。

  沉淀法是处理高浓度含氟废水的一种广泛使用的方法。氟化物沉淀或絮凝沉淀是通过添加化学药品或其他药物形成的，去除目的是通过固体分离实现的。沉淀法的处理效率取决于化学品，反应条件和固液分离效果。

  化学沉淀法半导体划片废水处理主要用于高浓度含氟废水的处理，钙盐沉淀法，即石灰沉淀法，被广泛使用。通过向废水中添加钙盐等化学物质，使钙离子与氟离子发生反应，生成CaF2沉淀，从而达到去除废水中F-的目的。该过程简单，方便，成本低廉，但有一些缺点。处理后的废水中的氟含量达到15mg / L之后，很难通过加入石灰水形成沉淀。因此，该方法一般适用于高浓度含氟废水的一级处理反应，难以达到国家标准。

  铝盐脱氟法是在水中添加硫酸铝，聚氯化铝，聚硫酸铝等铝盐凝结剂，并利用Al3 +与F-络合后生成的Al（OH）3明矾去除废水中的F-。铝盐的水解。由于试剂用量少，成本低，一次处理后的出水可以达到国家排放标准，因此铝盐的混凝沉淀法经常被用作含氟废水的二次处理反应。

  吸附方法是将含有活性氧化铝，聚铝盐，褐煤吸附剂，功能纤维吸附剂，活性炭和其他吸附剂的设备放入工业废水中，以便通过特殊或常规的离子交换或与固体介质的化学反应除去氟离子；最终吸附在吸附剂上，吸附剂还可以通过再生来恢复其交换容量。为了保证处理效果，废水的pH值不要太高，一般控制在5左右，吸附剂的吸附温度也不能过高。该方法一般用于工业含氟废水的末端保护，效果非常显着。

  含氟废水中的F-离子浓度为600mg / L，相对较高。钙盐+铝盐的二次处理应考虑去除氟。考虑到反应后形成的CaF2难以沉淀，仅进行一次沉淀就难以达到国家排放标准，因此在项目中会采用二次反应+二次沉淀去除废水中的氟离子，并以活性炭为吸附剂。

以上即是华清环保关于含氟半导体划片废水的处理工艺的相关介绍，希望对大家进行废水处理有帮助。