半导体研磨废水的新型技术

分类：新闻动态
作者：
来源：半导体研磨废水
发布时间：2020-07-21 14:13
访问量：

【概要描述】近年来我国半导体工业打开迅猛，半导体芯片工作运用许多研磨液进行芯片打磨抛光，产生各种半导体研磨废水，但跟着民众环保知道和环保要求的进步，环境污染也日益遭到人们的注重。现有的半导体研磨废水一般需求进行处理，达到规范后才调排放，现有的处理工艺一般选用一般絮凝堆积、电絮凝、高pH膜过滤等的处理工艺。

半导体研磨废水的新型技术

【概要描述】近年来我国半导体工业打开迅猛，半导体芯片工作运用许多研磨液进行芯片打磨抛光，产生各种半导体研磨废水，但跟着民众环保知道和环保要求的进步，环境污染也日益遭到人们的注重。现有的半导体研磨废水一般需求进行处理，达到规范后才调排放，现有的处理工艺一般选用一般絮凝堆积、电絮凝、高pH膜过滤等的处理工艺。

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来源：半导体研磨废水
发布时间：2020-07-21 14:13
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近年来我国半导体工业打开迅猛，半导体芯片工作运用许多研磨液进行芯片打磨抛光，产生各种半导体研磨废水，但跟着民众环保知道和环保要求的进步，环境污染也日益遭到人们的注重。现有的半导体研磨废水一般需求进行处理，达到规范后才调排放，现有的处理工艺一般选用一般絮凝堆积、电絮凝、高pH膜过滤等的处理工艺。

添加絮凝剂为常用的絮凝办法，可是因为研磨液呈现强稳定性需求投加许多的絮凝剂才调起到絮凝作用，这无疑添加了企业的投入本钱，并且，投加的絮凝剂量大，产生的污泥量也跟着添加，使得后续污泥处理的难度也随之变大。

针对现有技术中的上述缺少，本专利技术提供了一种半导体研磨废水的处理办法，该办法可有用处理现有的处理办法存在的絮凝剂投加量大，导致投入本钱添加和产生的污泥量大的问题。

专利技术处理其技术问题所选用的技术计划是：一种半导体研磨废水的处理办法，其特征在于，包含以下进程：(1)取研磨废水，调度研磨废水的pH值为8.5-10.5；(2)向经进程(1)处理后的研磨废水中参与破稳剂，使得研磨废水中破稳剂的质量浓度和悬浮物的质量浓度之比为1:9-13，然后拌和10-50min，得破稳废水；(3)向进程(2)中的破稳废水中顺次参与絮凝剂和助凝剂，使得破稳废水中絮凝剂的质量浓度与悬浮物的质量浓度之比为1:90-120，助凝剂与悬浮物的质量浓度之比为1:9-13，然后进行沉降分别即可。

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