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• 来源：半导体研磨废水
• 发布时间：2020-07-23 10:47
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【概要描述】机械研磨是半导体工作集成电路板制造过程中晶圆全平坦化的关键技术， 在晶圆研磨后的后续过程中运用超纯水对其进行清洗产生很多的研磨废水，此类废水中含 有高浓度以各种情况存在的细小的研磨含硅颗粒物、化学药剂、超纯水以及金属离子物质。 该半导体研磨废水的危害性是显而易见的...