半导体研磨废水回用为超纯水的背景大环境
- 分类:新闻动态
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- 来源:半导体研磨废水
- 发布时间:2020-07-23 10:47
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【概要描述】机械研磨是半导体工作集成电路板制造过程中晶圆全平坦化的关键技术, 在晶圆研磨后的后续过程中运用超纯水对其进行清洗产生很多的研磨废水,此类废水中含 有高浓度以各种情况存在的细小的研磨含硅颗粒物、化学药剂、超纯水以及金属离子物质。 该半导体研磨废水的危害性是显而易见的...
半导体研磨废水回用为超纯水的背景大环境
【概要描述】机械研磨是半导体工作集成电路板制造过程中晶圆全平坦化的关键技术, 在晶圆研磨后的后续过程中运用超纯水对其进行清洗产生很多的研磨废水,此类废水中含 有高浓度以各种情况存在的细小的研磨含硅颗粒物、化学药剂、超纯水以及金属离子物质。 该半导体研磨废水的危害性是显而易见的...
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- 发布时间:2020-07-23 10:47
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械研磨是半导体工作集成电路板制造过程中晶圆全平坦化的关键技术, 在晶圆研磨后的后续过程中运用超纯水对其进行清洗产生很多的研磨废水,此类废水中含 有高浓度以各种情况存在的细小的研磨含硅颗粒物、化学药剂、超纯水以及金属离子物质。 该半导体研磨废水的危害性是显而易见的,在当今水源污染损坏情况日益加剧的情况下,照应节能减 排要求,怎样利用此类废水水质进行充分合理有用的深度回用,缓解水资源匮乏成为一个 比较急切的课题。
半导体研磨废水由于在生产过程中对硅圆片进行研磨时运用纯水进行冲洗 而产生的含有孔径很小的纳米级的水溶性硅颗粒物质和清洗剂的工业废水,由于该类废水 所含其他杂质很少,如果可以将其间的该类物质和清洗剂去除,从头进行再利用会产生。
目 前现有的半导体研磨废水大多是经过化学混凝沉积进行污泥脱水,后作为工业用的杂用水如绿 化,消防等用处。该种处理占地面积较大,运转费用与能耗也较高,期间要添加许多化学药 剂会产生很多有害污泥,而且出水水质不安稳。针对巨大的使用机遇,半导体制造商在日常运营中,非常依赖于超纯水连续流。由 于全球水资源的日益短少,因而超纯水的生产成本在不断地上升,怎样做到节省成本,维护 环境成了每个企业家重视的细节。溶解固体和悬浮固体在含量、酸碱度和金属杂质方面的差异,使半导体研磨废水对常 规技术处理造成了挑战。
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