半导体研磨废水种类、来源和处理方法

【概要描述】从国家经济展开、工业布局和工业导向的改变来看，信息工业将是未来要点展开的工作之一。其间，半导体工作作为信息工业的根底，将会有迅猛的展开。而跟着该工作的快速展开，其对环境的影响及压力必定有所增加。半导体研磨废水处理形势也必定越来越严峻。

【概要描述】从国家经济展开、工业布局和工业导向的改变来看，信息工业将是未来要点展开的工作之一。其间，半导体工作作为信息工业的根底，将会有迅猛的展开。而跟着该工作的快速展开，其对环境的影响及压力必定有所增加。半导体研磨废水处理形势也必定越来越严峻。

从国家经济展开、工业布局和工业导向的改变来看，信息工业将是未来要点展开的工作之一。其间，半导体工作作为信息工业的根底，将会有迅猛的展开。而跟着该工作的快速展开，其对环境的影响及压力必定有所增加。半导体研磨废水处理形势也必定越来越严峻。

1. 废水的种类及来历

1.1.废水的种类

由于半导体公司的产品不同，各公司出产过程中发生的废水种类都不一样，各公司对发生的废水来历不一样所进行的分类也不一样。总的来水，半导体研磨废水可以分为含氟废水、含磷废水、有机废水、研磨废水、氨氮废水和酸碱废水。如无锡华润上华没有含磷废水，上海天马没有研磨废水。

1.2.废水的来历

含氟废水首要来历于来自于自芯片制造过程中的分散工序及化学机械研磨工序，在对硅片及相关器皿的清洗过程中也屡次用到氢氟酸。对粘膜、上呼吸道、眼睛、皮肤组织有损坏效果。污染物首要为氟离子。

含磷废水首要来历于出产工程中的铝刻蚀液。

有机废水，由于出产工艺的不同，有机溶剂的运用量关于半导体研磨废水工作而言具有很大的距离。但是作为清洗剂，有机溶剂依然广泛运用在制造封装的各个环节上。部分溶剂则成为有机废水排放。有机废水首要来历于IPA溶剂、显影液、ITO刻蚀液、酸洗塔酸碱废水、酸洗塔有机废水。

研磨废水首要来历于晶圆切开抛光后的后续清洗制程。首要污染物为悬浮固体。

氨氮废水首要来历于刻蚀过程中运用的氨水、氟化铵及用高纯水清洗。

酸碱废水首要来历于制造过程中的清洗工艺；纯水系统中多介质过滤器、活性炭过滤器的反冲刷水，混床再生后的清洗水；冷却塔排水。

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