半导体研磨废水的陶瓷膜起到这等奇效

分类：新闻动态
作者：
来源：半导体研磨废水
发布时间：2020-07-30 11:36
访问量：

【概要描述】半导体晶圆工业是近些年来我国工业发展中引人注目的先进工业，具有很大的商场和发展潜力，但一同也是一个十分依赖水资源的职业及高水耗的工业。在将晶圆变成具有各种功用的终端产品的过程中，根据产品要求及设定的尺度，需要对晶圆进行研磨和切开处理，一同在研磨和切开过程中运用纯水对晶圆进行清洗，这样就产生了大量的半导体研磨废水。

半导体研磨废水的陶瓷膜起到这等奇效

【概要描述】半导体晶圆工业是近些年来我国工业发展中引人注目的先进工业，具有很大的商场和发展潜力，但一同也是一个十分依赖水资源的职业及高水耗的工业。在将晶圆变成具有各种功用的终端产品的过程中，根据产品要求及设定的尺度，需要对晶圆进行研磨和切开处理，一同在研磨和切开过程中运用纯水对晶圆进行清洗，这样就产生了大量的半导体研磨废水。

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发布时间：2020-07-30 11:36
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半导体晶圆工业是近些年来我国工业发展中引人注目的先进工业，具有很大的商场和发展潜力，但一同也是一个十分依赖水资源的职业及高水耗的工业。在将晶圆变成具有各种功用的终端产品的过程中，根据产品要求及设定的尺度，需要对晶圆进行研磨和切开处理，一同在研磨和切开过程中运用纯水对晶圆进行清洗，这样就产生了大量的半导体研磨废水。

半导体研磨废水中的首要污染物为悬浮颗粒物(硅粉类)，此类废水的特点是悬浮物浓度高，质量轻，难堆积，外观污浊，在没有外加化学品的情况下，其有机物、氮、磷含量很低，简直可以忽略不计。

在现有的半导体研磨废水处理系统中，广泛选用的是化学混凝堆积处理方式，工艺设备凌乱，占地面积大，投资及运转费用高，操作凌乱，对纤细的悬浮物处理效果欠安;别的，由于化学药品的大量摄入，不只会产生更多的污泥，并且会导致出水水质不稳定，使处理后的水不易被收回再使用。在传统半导体研磨废水处理工艺的基础，我们引入了陶瓷超滤膜，使用陶瓷超滤膜强度大、通量大、产水量大、不易污堵的长处，来替代半导体研磨废水处理工艺的传统澄清过滤设备。

1.设置自清洗过滤器的目的是确保进入到HQWELL 过滤系统的颗粒物粒径小于200微米。

2.设置HQWELL 过滤系统的目的是维护后续的反渗透不被纤细颗粒物污染，确保进入反渗透的水中SDI小于3。

3.使用RO1进行预浓缩，减少后续单元处理规划，但浓缩倍率不宜太高，避免污染

4.有效澄清单元将RO1浓水进行软化，下降后续设备结垢风险。

5.海水淡化膜对RO1浓水进行再浓缩，产水通量应低于RO1。

6.网管式反渗透膜对海水淡化反渗透浓水再浓缩，其产水通量应低于海水淡化反渗透的产水通量。

7.将RO1，海水淡化膜，网管式反渗透膜的产水进行二次反渗透过滤，使得契合EDI或者混床的进水条件。

8.将网管式反渗透浓水进行氟化物收回，剩下的废水通过蒸腾结晶出杂盐而外输。

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