半导体研磨废水的陶瓷膜起到这等奇效
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- 来源:半导体研磨废水
- 发布时间:2020-07-30 11:36
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【概要描述】半导体晶圆工业是近些年来我国工业发展中引人注目的先进工业,具有很大的商场和发展潜力,但一同也是一个十分依赖水资源的职业及高水耗的工业。在将晶圆变成具有各种功用的终端产品的过程中,根据产品要求及设定的尺度,需要对晶圆进行研磨和切开处理,一同在研磨和切开过程中运用纯水对晶圆进行清洗,这样就产生了大量的半导体研磨废水。
半导体研磨废水的陶瓷膜起到这等奇效
【概要描述】半导体晶圆工业是近些年来我国工业发展中引人注目的先进工业,具有很大的商场和发展潜力,但一同也是一个十分依赖水资源的职业及高水耗的工业。在将晶圆变成具有各种功用的终端产品的过程中,根据产品要求及设定的尺度,需要对晶圆进行研磨和切开处理,一同在研磨和切开过程中运用纯水对晶圆进行清洗,这样就产生了大量的半导体研磨废水。
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半导体晶圆工业是近些年来我国工业发展中引人注目的先进工业,具有很大的商场和发展潜力,但一同也是一个十分依赖水资源的职业及高水耗的工业。在将晶圆变成具有各种功用的终端产品的过程中,根据产品要求及设定的尺度,需要对晶圆进行研磨和切开处理,一同在研磨和切开过程中运用纯水对晶圆进行清洗,这样就产生了大量的半导体研磨废水。
半导体研磨废水中的首要污染物为悬浮颗粒物(硅粉类),此类废水的特点是悬浮物浓度高,质量轻,难堆积,外观污浊,在没有外加化学品的情况下,其有机物、氮、磷含量很低,简直可以忽略不计。
在现有的半导体研磨废水处理系统中,广泛选用的是化学混凝堆积处理方式,工艺设备凌乱,占地面积大,投资及运转费用高,操作凌乱,对纤细的悬浮物处理效果欠安;别的,由于化学药品的大量摄入,不只会产生更多的污泥,并且会导致出水水质不稳定,使处理后的水不易被收回再使用。在传统半导体研磨废水处理工艺的基础,我们引入了陶瓷超滤膜,使用陶瓷超滤膜强度大、通量大、产水量大、不易污堵的长处,来替代半导体研磨废水处理工艺的传统澄清过滤设备。
1.设置自清洗过滤器的目的是确保进入到HQWELL 过滤系统的颗粒物粒径小于200微米。
2.设置HQWELL 过滤系统的目的是维护后续的反渗透不被纤细颗粒物污染,确保进入反渗透的水中SDI小于3。
3.使用RO1进行预浓缩,减少后续单元处理规划,但浓缩倍率不宜太高,避免污染
4.有效澄清单元将RO1浓水进行软化,下降后续设备结垢风险。
5.海水淡化膜对RO1浓水进行再浓缩,产水通量应低于RO1。
6.网管式反渗透膜对海水淡化反渗透浓水再浓缩,其产水通量应低于海水淡化反渗透的产水通量。
7.将RO1,海水淡化膜,网管式反渗透膜的产水进行二次反渗透过滤,使得契合EDI或者混床的进水条件。
8.将网管式反渗透浓水进行氟化物收回,剩下的废水通过蒸腾结晶出杂盐而外输。
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